怎么样用手机摄影出好作品？分享相片看看？
手机摄影作品越来越被更多人的人所接受，发微博、发朋友圈、发今日头条，人们利用手机摄影随时分享自己的所见所闻。
用手机拍摄一个最重要的原因就是方便！方便！方便！！！重要的事情说三遍。
简单的事情就不要搞得复杂化，如果用手机拍照还要像单反相机一样又要设置光圈、速度、感光度，又要这个那个的，我只想说：去～你～奶～奶～个～腿！
一、巧用快门线：
我用的手机是iphone，街拍时我用耳机做快门线，也就是说在相机模式下，耳机的音量键就是快门线，这个很重要，街拍时太方便了，真的可以拍到你想要的瞬间。
作品名称：街头指挥家
这位老人是一位自行车商行的老板，我在和这位老人聊天时，因为语言交流原因（我的英语很差），老人边说边用手做着手势，我左手举着相机，右手一直在按动快门，抓拍到几张老人的精彩照片，这张算是我比较喜欢的一张，老人的手势好像一个音乐指挥家。
二、近点！再近点！！
纽约摄影师Eric Van Nynatten的主业是时尚拍摄，在智能手机越来越易用的今天，他尝试用手机来完成自己的专业拍摄项目，取得了不错的效果。Eric Van Nynatten目前使用的手机是iPhone 6/8 plus，后期主力软件是VSCO和Snapseed。
分享一组他的作品：
再给大家分享一些既不难，又有效的手机摄影小技巧。看手机摄影，凭什么比相机还酷！
1.建筑·街道 — 读懂城市之美
无论古典建筑还是现代建筑，都是直观的视觉符号，很容易转化成我们的摄影语言，建筑摄影，需要我们对建筑（Architecture）多些理解，而非仅仅对建筑（Building）的“样式”进行记录。
拍摄街道、环境和场景的美，是和拍摄其中的人物摆在同等重要的位置上的。 这里要说的以“街道”为题材的摄影。建筑摄影可以归纳成五个字，其实这五个字的本质正是观察建筑之美的方式：
空——“表现空间比表现实体更重要”，寻找空间的美感、纵深感、层次感。
喜欢手机摄影的伙伴，多数是初学摄影的伙伴，那我们没什么摄影基础，怎么才拍出与众不同的作品？
构图、主体、光影，对焦，在你平时手机拍照前先考虑好这4点。
你的照片里的“主角”是什么，所以，如果想让你的照片印象深刻，至少得让别人知道你这照片里是啥？
● 如果你拍的是风景：
那也要知道拍的是山？是水？是树木？还是天空……
● 如果你拍的是人物：
这人在做什么？想什么？是哭是笑还是深思……
● 如果你拍的是物体：
现在的智能手机拍照功能都很强大，拍照时注意:
第一持机一定要稳，稳是拍到一张清晰照片的基本要求。
第二是构图，要掌握一定的构图原则，突出拍摄主题，注意画面均称，运用黄金分割和九宫格法则。
手机镜头大多为广角镜头，拍摄的画面内容宜近不宜远，要善于运用变焦，拉伸场景，达到理想景别。
第三是注意能掌握手机合适的感光条件。一般情况不必担心手机自身的自动暴光，只是注意运用手机触屏找准测光点，点触暗处即能加大暴光，点触亮处即能缩小暴光，这样就可以找到手机合适的暴光。
第四要注意掌握一定的后期修图，适当的后期修图可以使照片容颜焕发，锦上添花。
光刻机技术的难点是什么？中国有没有能造光刻机的企业？
中国光刻机现状及领域突破
中国半导体芯片长期以来一直靠进口为主，每年进口的集成电路设备及材料大约为15000亿左右，相当于我国每年的石油进口量甚至还要多。
众所周知，芯片制造技术是一项综合性很强的技术，不仅聚合了很多的半导体领域的尖端技术，而且还需要先进的半导体设备匹配和强大的相关技术的储备，才能打造出一条技术先进的芯片生产线。
因此没有先进的半导体技术和各种半导体设备，要想打造出一条芯片生产线可谓是难上加难。
近期中芯南方厂的首条14nm芯片生产线正式投产，良品率超预期达到了95%，这标志着中芯国际已经超越了台积电南京厂、格芯等厂商，杀进了格罗方德、联电、东芝、美光等芯片厂商的阵营，拿到了跻身于全球先进芯片代工厂行列的入场卷。
中芯国际14nm芯片的量产，不仅让中国半导体芯片的发展向前推进了一大步，而且也解除了华为14nm芯片供给的后顾之忧。
中芯国际的14nm先进芯片生产线的诞生，只是中国芯片万里长征迈出的一小步，后面还有更长、更远的路要走，因为我们的目标是星辰大海。
目前我国半导体行业面临最为严峻的为光刻机，虽然14nm已经基本实现量产，但在7nm甚至是5nm方面全部空白，而且生产14nm的光刻机也得从荷兰阿斯麦进口。
光刻机技术的难点是什么？中国有没有能造光刻机的企业？精密的高端光刻机是现今集成度越来越高的芯片制造所需要的，比如7nm/5nm制程的芯片。然而对于我们来说现实有些残酷，虽然我们有企业可以制造中低端的光刻机，却制造不了像ASML这样我们所需要的7nm EUV高端光刻机、连购买也成为了问题，直到现在还在和ASML交涉前两年中芯国际花费巨额资金预定的一台光刻机。
目前我国能够生产中低端的光刻机，而且在中低端市场份额占据不小，并且生产的中低端芯片份额也算不小，最突出的就是上海微电子装备（集团）股份有限公司。但是生产如手机所需7nm、5nm这样的芯片，国内光刻机的制程差距就显得较大了，国内性能领先的光刻机是上海微电子SMEE仅达到90nm。而像ASML早已经进入7nm、5nm制程的光刻机。
所以国内芯片制造企业一直在竭力想要引进高端的光刻机，但这又被ASML所垄断。中芯国际早在两年前就花费1.5亿美元向ASML预定一天7nm EUV工艺的光刻机，本来预计2019年年初交货，却因为各种各样的原因被拖到现在，依然没有交货。通过国家层面的交涉，来自ASML最新的消息是：“未来ASML将会继续和中国合作，不管有没有销售许可证，ASML都希望能够继续向中国销售供应光刻机。”。也许中芯国际的这台高端光刻机将会很快到来，并且华虹半导体也有望获得高端光刻机。
为何ASML会如此忸怩作态不愿及时交付7nm的光刻机呢？一个是源于ASML受西方针对我们泡制的《瓦森纳协定》控制，对我国实行高科技的限制性封锁。也就是说，如中国在某一领域有所进展，则相关技术解禁一层。比如我们有90nm的光刻机，ASML就只对我们开放75nm的光刻机。另一个缘于美国的打压，也就是现目前如果ASML光刻机中美国的技术占据25%，那么ASML就要受到美国的管制而不能出口。
光刻机的技术特别是其零部件技术和产品，具有相当的高难度。其组成的3万多个部件都要相当可靠才行，这其中有很多的技术难点需要解决，比如能量控制器、透光器、掩膜版、激光器等等。比如：曝光系统，需要频率稳定能量均匀的光源，但这个光源我们自己造不了但又从外部得不到，这个光源被美国的极紫外光龙头公司Cymer所掌握（后来被ASML收购）；又比如为了保证光通过物镜不变形而所需的要求极高的镜头被德国蔡司所掌握；还有轴承、阀件等等，这些精密的部件都需要依靠国外进口而得来，但却被别人禁运，我们制造的部件又达不到如此精密。
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